Gara a procedura aperta ai sensi dell’art. 71 del D.Lgs. 36/2023 per la fornitura di un sistema per la rimozione ionica reattiva assistita da plasma accoppiato induttivamente (Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching, ICP-RIE)
| Vergabestelle | ISTITUTO ITALIANO DI TECNOLOGIA |
| Land | Italien |
| Veröffentlicht | 03.08.2026 |
| Eingabefrist | 21.09.2026 |
Fornitura di un sistema per la rimozione ionica reattiva assistita da plasma accoppiato induttivamente (Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching, ICP-RIE)
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