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Ultra-high Resolution Electron-beam Lithography System

VergabestelleETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services
LandSchweiz
RegionZH
Veröffentlicht01.10.2026
Eingabefrist10.11.2026

The B & R Nanotechnology Center (BRNC) at ETH Zurich invites tenders for the purchase of one (1) ultra-high resolution electron-beam lithography (EBL) system. The system will be used for a variety of research activities of internal and external users, ranging from the generation of high-precision structures at the nanometer level to the rapid exposure of complex structures over large areas. The scope includes delivery, installation, training and acceptance of the system.

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Diese Ausschreibung ist amtlich eingeordnet unter:

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